フォトマスクに関する専門書は非常に限られるため、希少な本。
生産工程や生産装置などが図解入りで紹介されており、マスク生産の概要を理解するには充分な内容。
しかし2018年現在では装置情報等は古くなっているので留意が必要。
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入門フォトマスク技術: LSI、FPD、PWB、MEMSのためのフォトマスク 単行本 – 2006/12/1
田辺 功
(著)
- 本の長さ323ページ
- 言語日本語
- 出版社工業調査会
- 発売日2006/12/1
- ISBN-104769312598
- ISBN-13978-4769312598
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登録情報
- 出版社 : 工業調査会 (2006/12/1)
- 発売日 : 2006/12/1
- 言語 : 日本語
- 単行本 : 323ページ
- ISBN-10 : 4769312598
- ISBN-13 : 978-4769312598
- Amazon 売れ筋ランキング: - 1,071,687位本 (本の売れ筋ランキングを見る)
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