Stratistics MRCによると、リモートプラズマソースの世界市場は2023年に3億6,195万ドルを占め、2030年には14億7,283万ドルに達すると予測されている。炭化水素系汚染物質は、従来のガスパージ技術では除去が極めて困難であるため、リモートプラズマソースが真空チャンバ内に設置される。半導体プロセスにおけるフォトレジストのドライ除去を含むアプリケーションでは、リモートプラズマ源が一般的に使用される。さらに、表面を分子レベルでクリーンにするために、不純物の最終層を除去するためにも使用できる。 NASAスペースプレイスによると、太陽のコアの水素は、高温プラズマの泡で保持され、太陽表…